Année de production
2009
© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images
20090001_0512
Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement permet d'insoler des résines photosensibles avec une résolution de 0.35 µm. Les résines servent ensuite de masquage pour la mise en forme de matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
2009
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.