20090001_0512

© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images

Référence

20090001_0512

Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement per

Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement permet d'insoler des résines photosensibles avec une résolution de 0.35 µm. Les résines servent ensuite de masquage pour la mise en forme de matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.