20090001_0512

© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images

Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement per

Référence

20090001_0512

Année de production

2009

Taille maximale

24.11 x 36.31 cm / 300 dpi

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Légende

Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement permet d'insoler des résines photosensibles avec une résolution de 0.35 µm. Les résines servent ensuite de masquage pour la mise en forme de matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.

Laboratoire(s)

UPR8001 - Laboratoire d'analyse et d'architecture des systèmes (LAAS-CNRS)Site du laboratoire Voir la galerie du laboratoire

Institut(s)

Délégation(s)

Occitanie Ouest

Thématiques scientifiques

Mots-clés

Composant électronique
Ecran
Microsystème
Nanostructure
Photolithographie
Polymère
Projection
Résine synthétique
Vêtement de protection

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