Année de production
2009
© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images
Référence
20090001_0512
Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement per
Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement permet d'insoler des résines photosensibles avec une résolution de 0.35 µm. Les résines servent ensuite de masquage pour la mise en forme de matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.
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