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20110001_0944
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatis

Référence

20110001_0944

Année de production

2009

Taille maximale

24.11 x 36.31 cm / 300 dpi

Légende

Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatisés pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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