See Photo report
20110001_0944
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatis

Reference

20110001_0944

Production year

2009

Max. size

24.11 x 36.31 cm / 300 dpi

Caption

Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatisés pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

CNRS Institute(s)

Regional office(s)

Scientific topics

CNRS Images,

Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.