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Reference
20110001_0961
Sas de chargement de substrats dans un équipement d'implantation ionique pour le dopage localisé de
Sas de chargement de substrats dans un équipement d'implantation ionique pour le dopage localisé de matériaux. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.
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