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20110001_0960
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Chargement d'une plaquette dans un équipement de gravure profonde assistée par plasma de silicium. L

Reference

20110001_0960

Production year

2009

Max. size

15 x 22.59 cm / 300 dpi

Caption

Chargement d'une plaquette dans un équipement de gravure profonde assistée par plasma de silicium. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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