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20110001_0960
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Chargement d'une plaquette dans un équipement de gravure profonde assistée par plasma de silicium. L

Référence

20110001_0960

Année de production

2009

Taille maximale

15 x 22.59 cm / 300 dpi

Légende

Chargement d'une plaquette dans un équipement de gravure profonde assistée par plasma de silicium. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

Institut(s)

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Thématiques scientifiques

Issues du même reportage : Plateforme Renatech au LAAS

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