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Reference
20110001_0963
Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de silicium. La chauffe se fait par la
Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de silicium. La chauffe se fait par lampes halogènes avec des rampes allant jusqu'à 100 °C/sec. La température maximale est de 1 400 °C. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.
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