Voir le reportage
20110001_0963
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de silicium. La chauffe se fait par la

Référence

20110001_0963

Année de production

2009

Taille maximale

30.11 x 20 cm / 300 dpi

Légende

Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de silicium. La chauffe se fait par lampes halogènes avec des rampes allant jusqu'à 100 °C/sec. La température maximale est de 1 400 °C. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

Issues du même reportage : Plateforme Renatech au LAAS

CNRS Images,

Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.