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Plateforme Renatech au LAAS

Plateforme Renatech au LAAS

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Fours automatisés pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont chargés sur les nacelles avant l'enfournement. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au sein d'une…

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Fours automatisés pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de s
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Chargement d'une plaquette dans un équipement de gravure profonde assistée par plasma de silicium. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Chargement d'une plaquette dans un équipement de gravure profonde assistée par plasma de silicium. L
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Ecran de commande et de visualisation d'un équipement de jet d'encre. C'est une technique de dépôt de nanoparticules, de polymères, ou de substances en solution dans un liquide communément appelé "encre". Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Ecran de commande et de visualisation d'un équipement de jet d'encre. C'est une technique de dépôt d
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Equipement de jet d'encre, une technique de dépôt de nanoparticules, de polymères, ou de substances en solution dans un liquide communément appelé "encre". Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Equipement de jet d'encre, une technique de dépôt de nanoparticules, de polymères, ou de substances
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Après une fabrication collective sur des plaquettes, les puces sont séparées à l'aide d'une scie diamantée. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Après une fabrication collective sur des plaquettes, les puces sont séparées à l'aide d'une scie dia
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Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatisés pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au…

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Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatis
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Système permettant de mesurer la surpression d'une salle par rapport à une autre. En salle blanche l'environnement est contrôlé en température, humidité et taux d'empoussièrement. Plus l'environnement est propre, plus la pression est élevée. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Système permettant de mesurer la surpression d'une salle par rapport à une autre. En salle blanche l
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Sas de chargement de substrats dans un équipement d'implantation ionique pour le dopage localisé de matériaux. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Sas de chargement de substrats dans un équipement d'implantation ionique pour le dopage localisé de
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Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatisés pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au…

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Des substrats de silicium sont chargés sur des nacelles, avant enfournement dans les fours automatis
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Equipement pour le report manuel de puces sur supports par collage. Il permet également la protection par encapsulation polymère des puces, après la microsoudure filaire. Après une fabrication collective sur des plaquettes, les puces sont séparées, montées sur des boitiers puis microsoudées pour la prise des contacts électriques. Les diamètres de fils les plus communément utilisés sont 17 et 25 µm. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche…

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Equipement pour le report manuel de puces sur supports par collage. Il permet également la protectio
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Equipement de titration permettant la mesure d'espèces chimiques. Son système d'ajouts dosés permet la préparation, avec une très grande précision, de solutions de concentration très faible, utilisées en électrochimie. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau…

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Equipement de titration permettant la mesure d'espèces chimiques. Son système d'ajouts dosés permet
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Fours pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont chargés sur les nacelles avant l'enfournement. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme…

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Fours pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont
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En haut à gauche, un substrat de silicium vierge. Au centre, un substrat sur lequel ont été réalisées diverses étapes du processus de fabrication. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Divers substrats sont utilisés (silicium, nitrure de gallium, diamant...). Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau…

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En haut à gauche, un substrat de silicium vierge. Au centre, un substrat sur lequel ont été réalisée
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Substrats de silicium et de pyrex après la réalisation de dépôts électrolytiques. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Substrats de silicium et de pyrex après la réalisation de dépôts électrolytiques. Les microcomposant
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Partie centrale du système automatisé de dispense et développement de résines photosensibles utilisées dans les processus de photolithographie. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Partie centrale du système automatisé de dispense et développement de résines photosensibles utilisé
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Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de silicium. La chauffe se fait par lampes halogènes avec des rampes allant jusqu'à 100 °C/sec. La température maximale est de 1 400 °C. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de silicium. La chauffe se fait par la
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Equipement pour la soudure microfilaire entre des puces et leur support. Après une fabrication collective sur des plaquettes, les puces sont séparées, montées sur des boitiers puis microsoudées pour la prise des contacts électriques. Les diamètres de fils les plus communément utilisés sont 17 et 25 µm. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont…

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Equipement pour la soudure microfilaire entre des puces et leur support. Après une fabrication colle
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Four pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont chargés sur les nacelles avant l'enfournement. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme…

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Four pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont
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Canne de transfert de substrats d'un bâti d'épitaxie par jets moléculaires. Dans cet équipement sous ultravide on fait croître des matériaux en contrôlant la composition de chaque couche atomique. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Canne de transfert de substrats d'un bâti d'épitaxie par jets moléculaires. Dans cet équipement sous
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Substrat de pyrex, support d'une couche métallique microstructurée. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Substrat de pyrex, support d'une couche métallique microstructurée. Les microcomposants sont réalisé
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Poste sécurisé servant de support environnemental à un équipement manuel et de faible volume, pour la mise au point de la chimie de bains électrolytiques et des conditions de dépôt. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Poste sécurisé servant de support environnemental à un équipement manuel et de faible volume, pour l
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Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de matériaux III-V (base GaAs, arséniure de gallium). La chauffe se fait par lampes halogènes avec des rampes allant jusqu'à 120 °C/sec. La température maximale est de 900 °C. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies…

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Support d'échantillon d'un four de recuit rapide de substrats de matériaux III-V (base GaAs, arséniu
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Zone de chimie permettant la mise en œuvre de nettoyages, comme ici, de gravures, de traitements de matériaux, dans des hottes adaptées et sécurisées. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Zone de chimie permettant la mise en ½uvre de nettoyages, comme ici, de gravures, de traitements de
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Zone de chimie permettant la mise en œuvre de nettoyages, gravures, traitement de matériaux dans des hottes adaptées et sécurisées. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Zone de chimie permettant la mise en oeuvre de nettoyages, gravures, traitement de matériaux dans de
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Chargement manuel d'un substrat, sur un aligneur de masques utilisé dans les processus de photolithographie de définition de motifs, avec une résolution micronique. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Chargement manuel d'un substrat, sur un aligneur de masques utilisé dans les processus de photolitho
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Equipement d'ellipsométrie permettant la mesure de l'épaisseur et de l'indice optique de couches transparentes aux longueurs d'ondes émises par l'équipement. A droite, le détecteur qui reçoit la lumière réfléchie par un substrat. Cet appareil sert à caractériser l'empilement de couches de divers matériaux constituant les microcomposants. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et…

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Equipement d'ellipsométrie permettant la mesure de l'épaisseur et de l'indice optique de couches tra
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Chargement de plaquettes dans un équipement de délaquage de résines photosensibles par plasma oxygène. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Chargement de plaquettes dans un équipement de délaquage de résines photosensibles par plasma oxygèn
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Equipement d'enduction de résine photosensible sur substrat par centrifugation. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Equipement d'enduction de résine photosensible sur substrat par centrifugation. Les microcomposants
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Equipement d'ellipsométrie permettant la mesure de l'épaisseur et de l'indice optique de couches transparentes aux longueurs d'ondes émises par l'équipement. Cet appareil sert à caractériser l'empilement de couches de divers matériaux constituant les microcomposants. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Equipement d'ellipsométrie permettant la mesure de l'épaisseur et de l'indice optique de couches tra
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Poste sécurisé servant de support environnemental à un équipement manuel et de faible volume, pour la mise au point de la chimie de bains électrolytiques et des conditions de dépôt. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Poste sécurisé servant de support environnemental à un équipement manuel et de faible volume, pour l
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Bâti d'épitaxie par jets moléculaires, équipement sous ultravide dans lequel on fait croître des matériaux, en contrôlant la composition de chaque couche atomique. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Bâti d'épitaxie par jets moléculaires, équipement sous ultravide dans lequel on fait croître des mat
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Nettoyage de masques utilisés en photolithographie optique. Ces masques permettent de transférer l'image d'un motif dans une résine photosensible. Les motifs ainsi transférés permettent ensuite la mise en forme de matériaux pour la réalisation de microcomposants (puces). Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Nettoyage de masques utilisés en photolithographie optique. Ces masques permettent de transférer l'i

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