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20110001_0959
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Chargement manuel d'un substrat, sur un aligneur de masques utilisé dans les processus de photolitho

Référence

20110001_0959

Année de production

2009

Taille maximale

15 x 18.15 cm / 300 dpi

Légende

Chargement manuel d'un substrat, sur un aligneur de masques utilisé dans les processus de photolithographie de définition de motifs, avec une résolution micronique. Les microcomposants sont réalisés par un empilement de couches de divers matériaux. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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Thématiques scientifiques

Issues du même reportage : Plateforme Renatech au LAAS

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