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20110001_0948
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Four pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont

Référence

20110001_0948

Année de production

2009

Taille maximale

22.59 x 15 cm / 300 dpi

Légende

Four pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont chargés sur les nacelles avant l'enfournement. A l'intérieur des fours, les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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