
© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images
Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement per
Reference
20090001_0512
Production year
2009
Max. size
24.11 x 36.31 cm / 300 dpi
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Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement permet d'insoler des résines photosensibles avec une résolution de 0.35 µm. Les résines servent ensuite de masquage pour la mise en forme de matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.