20090001_0512
© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images

Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement per

Reference

20090001_0512

Production year

2009

Max. size

24.11 x 36.31 cm / 300 dpi

Caption

Plateforme micro et nanotechnologies : équipement de lithographie par projection. Cet équipement permet d'insoler des résines photosensibles avec une résolution de 0.35 µm. Les résines servent ensuite de masquage pour la mise en forme de matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.

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