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20110001_0941
© Cyril FRESILLON/CNRS Images

Nettoyage de masques utilisés en photolithographie optique. Ces masques permettent de transférer l'i

Reference

20110001_0941

Production year

2009

Max. size

24.11 x 36.31 cm / 300 dpi

Caption

Nettoyage de masques utilisés en photolithographie optique. Ces masques permettent de transférer l'image d'un motif dans une résine photosensible. Les motifs ainsi transférés permettent ensuite la mise en forme de matériaux pour la réalisation de microcomposants (puces). Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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CNRS Images,

Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.