Année de production
2009
© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images
20090001_0502
Plateforme micro et nanotechnologies : équipement multichambre robotisé de dépôts de films minces sous vide. L'assistant ingénieur introduit un substrat de silicium dans le sas de chargement de l'équipement. Tout l'équipement est sous vide secondaire. A l'intérieur des cinq chambres sont réalisés divers dépôts de matériaux ultrapurs pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes.
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2009
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