Année de production
2017
© Cyril FRESILLON / PPRIME / CNRS Images
20170142_0023
Visualisation sur un écran de contrôle des servitudes (condition de plasma, puissance électrique, température du porte-objet, ouverture/fermeture des caches) et des programmes de pilotage d'un automate. Celui-ci permet le pilotage d'un bâti de dépôt ultravide par pulvérisation magnétron. Cette automatisation permet un contrôle robuste des paramètres de dépôt pour la réalisation de couches à architecture complexe (multicouches). Le bâti de dépôt est utilisé pour la synthèse de couches minces (du nanomètre au micromètre) de différents types de matériaux inorganiques (métaux, céramiques…) et présentant des architectures variées : nanoparticules, couches épitaxiées, nanocomposites et multicouches.
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2017
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