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Référence
20170142_0028
Cible métallique ultrapure utilisée pour la réalisation de couches minces
Cible métallique ultrapure utilisée pour la réalisation de couches minces grâce à la pulvérisation par faisceau d'ions. La zone centrale fait apparaître une érosion préférentielle donnant un aperçu des dimensions spatiales du faisceau d'ions. Ce type de cible est utilisé dans les technologies physiques en phase vapeur, pour la réalisation de couches minces par pulvérisation magnétron ou par faisceau d'ions.
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