Année de production
2016
© Frédérique PLAS / ETIS / UCP / ENSEA / CNRS Images
20160097_0045
Wafer issu de la technologie SOI (Silicon On Insulator - silicium sur isolant), sur la plaquette duquel différents types de transistors MOS sont gravés. Il sera soumis à des mesures sous pointes afin de déterminer un modèle électrique. La station au second plan permet de positionner les pointes afin qu'elles soient mises en contact électrique avec le circuit, avec une précision de l'ordre de 10 à 20 µm. Suivant l’application, les mesures électriques permettent de caractériser les performances d’un circuit (gain, linéarité…) ou d’obtenir des informations sur le comportement électrique de composants afin d’en déduire un modèle électrique équivalent.
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
2016
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.