
© Jérôme CHATIN/CNRS Images
Travail en salle de lithographie optique dédiée à la réalisation de motifs en résine de dimensions m
Référence
20050001_0355
Année de production
2005
Taille maximale
16.59 x 25.47 cm / 300 dpi
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Travail en salle de lithographie optique dédiée à la réalisation de motifs en résine de dimensions microniques à submicroniques (0,7µm). La lithographie optique représente une étape clé dans la technologie de fabrication de nombreux dispositifs comme les transistors, diodes, Vcsels, photodétecteurs ou rubans laser.