Année de production
2002
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Référence
20020001_0376
Fixation de substrat Silicium 2 sur le porte échantillon de la chambre d'évaporation sous vide par c
Fixation de substrat Silicium 2 sur le porte échantillon de la chambre d'évaporation sous vide par canon à éléctrons, avant dépôt métallique. Cette chambre est utilisée pour les microsystèmes, microcapteurs et composants électroniques.
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