20020001_0376

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20020001_0376

Fixation de substrat Silicium 2 sur le porte échantillon de la chambre d'évaporation sous vide par c

Fixation de substrat Silicium 2 sur le porte échantillon de la chambre d'évaporation sous vide par canon à éléctrons, avant dépôt métallique. Cette chambre est utilisée pour les microsystèmes, microcapteurs et composants électroniques.

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