Caption
Chambre ultravide à l'intérieur de laquelle on distingue des substrats de silicium prêts pour un transfert dans un réacteur d'épitaxie par jets moléculaires pour l'élaboration de nanostructures.
© Emmanuel PERRIN/CNRS Images
Chambre ultravide à l'intérieur de laquelle on distingue des substrats de silicium prêts pour un tra
Reference
20090001_1216
Production year
2009
Max. size
36.31 x 24.11 cm / 300 dpi
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