Année de production
2009
© Emmanuel PERRIN/CNRS Images
Référence
20090001_1216
Chambre ultravide à l'intérieur de laquelle on distingue des substrats de silicium prêts pour un tra
Chambre ultravide à l'intérieur de laquelle on distingue des substrats de silicium prêts pour un transfert dans un réacteur d'épitaxie par jets moléculaires pour l'élaboration de nanostructures.
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