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Référence
20110001_0941
Nettoyage de masques utilisés en photolithographie optique. Ces masques permettent de transférer l'i
Nettoyage de masques utilisés en photolithographie optique. Ces masques permettent de transférer l'image d'un motif dans une résine photosensible. Les motifs ainsi transférés permettent ensuite la mise en forme de matériaux pour la réalisation de microcomposants (puces). Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.
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