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20170142_0027

© Cyril FRESILLON / PPRIME / CNRS Images

Référence

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Bâti de dépôt ultra-vide par pulvérisation magnétron et sas de chargement

Bâti de dépôt ultra-vide par pulvérisation magnétron et sas de chargement. Celui-ci permet le transfert des échantillons dans l'enceinte de dépôt, à l'aide d'une canne de translation munie d'un système à engrenage (au premier plan à droite). Les différents hublots permettent de visualiser l'intérieur de l'enceinte et sont aussi utilisés pour recueillir les signaux optiques des mesures in situ en cours de croissance, offrant ainsi un suivi en temps réel à l'échelle de la monocouche. Ce bâti de dépôt est utilisé pour la synthèse de couches minces (du nanomètre au micromètre) de différents types de matériaux inorganiques (métaux, céramiques…) et présentant des architectures variées : nanoparticules, couches épitaxiées, nanocomposites et multicouches.

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