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20150001_0542
© Cyril FRESILLON/INL/CNRS Photothèque

Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD

Référence

20150001_0542

Année de production

2015

Taille maximale

38.47 x 27.77 cm / 300 dpi

Légende

Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

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