Dépôt de couches métalliques par pulvérisation cathodique sur des plaquettes de silicium dans un réacteur. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'appareil utilisé permet de déposer jusqu'à quatre métaux différents. Des contacts métalliques sont ainsi réalisés sur les deux faces des cellules photovoltaïques.
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Mise en place d'échantillons de silicium pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. Des triangles en quartz permettent de maintenir les échantillons et d'effectuer un dépôt double face. Ils seront ensuite insérés dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition). L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Mise en place d'échantillons de silicium pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. Des triangles en quartz permettent de maintenir les échantillons et d'effectuer un dépôt double face. Ils seront ensuite insérés dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition). L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Dépôt de couches métalliques par pulvérisation cathodique sur des plaquettes de silicium dans un réacteur. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'appareil utilisé permet de déposer jusqu'à quatre métaux différents. Des contacts métalliques sont ainsi réalisés sur les deux faces des cellules photovoltaïques.
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en…
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en…
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en…
Réacteur en quartz d'épitaxie en phase vapeur, utilisé pour la croissance de couche mince de silicium. Les chercheurs tentent ainsi d'améliorer les cellules photovoltaïques en silicium cristallin et de mettre au point des cellules en couches minces et ultra-minces de silicium monocristallin. Ils associent des concepts innovants à base de nanostructures et d'ingénierie photonique. Leur objectif est également d'atteindre de hauts rendements pour l'intégration monolithique à bas coût de certaines…
Simulateur solaire pour la caractérisation de cellules photovoltaïques. Les pointes permettent de mesurer le courant de court-circuit, la tension de circuit ouvert, la tension maximale et le courant maximal délivrés par la cellule sous un éclairement équivalent à celui du soleil. Ces paramètres permettent de calculer le rendement de conversion des cellules photovoltaïques.
Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.
Simulateur solaire pour la caractérisation de cellules photovoltaïques. Les pointes permettent de mesurer le courant de court-circuit, la tension de circuit ouvert, la tension maximale et le courant maximal délivrés par la cellule sous un éclairement équivalent à celui du soleil. Ces paramètres permettent de calculer le rendement de conversion des cellules photovoltaïques.
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en…
Réacteur en quartz d'épitaxie en phase vapeur, utilisé pour la croissance de couche mince de silicium. Les chercheurs tentent ainsi d'améliorer les cellules photovoltaïques en silicium cristallin et de mettre au point des cellules en couches minces et ultra-minces de silicium monocristallin. Ils associent des concepts innovants à base de nanostructures et d'ingénierie photonique. Leur objectif est également d'atteindre de hauts rendements pour l'intégration monolithique à bas coût de certaines…
Réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) utilisé pour le dépôt de couches minces d'alumine sur des cellules photovoltaïques en silicium cristallin. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion, et d'améliorer ainsi leur rendement de conversion.
Dépôt de couches métalliques par pulvérisation cathodique sur des plaquettes de silicium dans un réacteur. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'appareil utilisé permet de déposer jusqu'à quatre métaux différents. Des contacts métalliques sont ainsi réalisés sur les deux faces des cellules photovoltaïques.
Simulateur solaire pour la caractérisation de cellules photovoltaïques. Les pointes permettent de mesurer le courant de court-circuit, la tension de circuit ouvert, la tension maximale et le courant maximal délivrés par la cellule sous un éclairement équivalent à celui du soleil. Ces paramètres permettent de calculer le rendement de conversion des cellules photovoltaïques.
Réacteur en quartz d'épitaxie en phase vapeur, utilisé pour la croissance de couche mince de silicium. Les chercheurs tentent ainsi d'améliorer les cellules photovoltaïques en silicium cristallin et de mettre au point des cellules en couches minces et ultra-minces de silicium monocristallin. Ils associent des concepts innovants à base de nanostructures et d'ingénierie photonique. Leur objectif est également d'atteindre de hauts rendements pour l'intégration monolithique à bas coût de certaines…
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Mise en place d'échantillons de silicium, avant leur introduction dans un réacteur. Des couches métalliques seront ensuite déposées par pulvérisation cathodique sur ces couches minces de silicium. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces couches en cellules photovoltaïques. L'appareil utilisé permet de déposer jusqu'à quatre métaux différents. Des contacts métalliques sont ainsi réalisés sur les deux faces des cellules photovoltaïques.
Simulateur solaire pour la caractérisation de cellules photovoltaïques. Les pointes permettent de mesurer le courant de court-circuit, la tension de circuit ouvert, la tension maximale et le courant maximal délivrés par la cellule sous un éclairement équivalent à celui du soleil. Ces paramètres permettent de calculer le rendement de conversion des cellules photovoltaïques.
Plaquette de silicium vue à travers le hublot rouge d'un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Bâti d'épitaxie en phase vapeur, utilisé pour la croissance de couche mince de silicium. Les chercheurs tentent ainsi d'améliorer les cellules photovoltaïques en silicium cristallin et de mettre au point des cellules en couches minces et ultra-minces de silicium monocristallin. Ils associent des concepts innovants à base de nanostructures et d'ingénierie photonique. Leur objectif est également d'atteindre de hauts rendements pour l'intégration monolithique à bas coût de certaines cellules…
Plaquette de silicium vue à travers le hublot rouge d'un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Mise en place d'échantillons de silicium, avant leur introduction dans un réacteur. Des couches métalliques seront ensuite déposées par pulvérisation cathodique sur ces couches minces de silicium. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces couches en cellules photovoltaïques. L'appareil utilisé permet de déposer jusqu'à quatre métaux différents. Des contacts métalliques sont ainsi réalisés sur les deux faces des cellules photovoltaïques.
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Bâti d'épitaxie en phase vapeur, utilisé pour la croissance de couche mince de silicium. Les chercheurs tentent ainsi d'améliorer les cellules photovoltaïques en silicium cristallin et de mettre au point des cellules en couches minces et ultra-minces de silicium monocristallin. Ils associent des concepts innovants à base de nanostructures et d'ingénierie photonique. Leur objectif est également d'atteindre de hauts rendements pour l'intégration monolithique à bas coût de certaines cellules…
Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.
Réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) utilisé pour le dépôt de couches minces d'alumine sur des cellules photovoltaïques en silicium cristallin. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion, et d'améliorer ainsi leur rendement de conversion.
Exemple de motif, après l'ablation laser UV d'une plaquette de silicium. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.
Exemple de motif, après l'ablation laser UV d'une plaquette de silicium. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en…
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.