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20150001_0541
© Cyril FRESILLON/INL/CNRS Photothèque

Mise en place d'échantillons de silicium

Référence

20150001_0541

Année de production

2015

Taille maximale

41.72 x 27.77 cm / 300 dpi

Légende

Mise en place d'échantillons de silicium pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. Des triangles en quartz permettent de maintenir les échantillons et d'effectuer un dépôt double face. Ils seront ensuite insérés dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition). L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

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