Année de production
2015
© Cyril FRESILLON/INL/CNRS Images
20150001_0532
Insertion d'une plaquette de silicium dans un appareil comportant un laser UV pour l'ablation de couches minces ou pour un recuit localisé. Cette opération permet un dopage localisé sur la face et / ou la face arrière de la plaquette de silicium. Elle fait partie des étapes permettant de la transformer en cellule photovoltaïque. Cette technique vise à améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
2015
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.