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20150001_0521
© Cyril FRESILLON/INL/CNRS Photothèque

Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma

Référence

20150001_0521

Année de production

2015

Taille maximale

27.77 x 41.72 cm / 300 dpi

Légende

Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.

Institut(s)

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Thématiques scientifiques

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