The FEMTO-ST Institute Franche-Comté Electronics Mechanics Thermal Science and Optics – Sciences and Technologies

Salle blanche MIMENTO, membre du réseau RTB (Recherche technologique de base). Ouverte aux partenaires académiques et industriels, elle représente 400 m² de surface avec une extension de 400 m² qui sera livrée en 2013. Les axes majeurs sont la micro, la nanoacoustique, la micro et la nanophotonique et les MEMS (Microelectromechanical systems).

Echantillon placé à l'intérieur d'un Dual Beam, un bâti composé de deux faisceaux : microscope électronique à balayage (MEB) et focused ion beam (FIB) ou faisceau d'ions focalisé. Il permet de réaliser des images et de graver la matière à haute résolution, les résolutions respectives étant 1 nm et 4 nm. Les principales applications sont la caractérisation haute résolution d'échantillons et la gravure localisée, notamment pour des applications en nanophotonique.

Un ingénieur commande le plafond soufflant disposé au dessus du Dual Beam, visible au fond. Ce dispositif permet de garantir localement un faible niveau d'empoussièrement (classe 1000). Le Dual Beam est un bâti composé de deux faisceaux : un microscope électronique à balayage (MEB) et un focused ion beam (FIB) ou faisceau d'ions focalisé. Il permet de réaliser des images et de graver la matière à haute résolution, les résolutions respectives étant 1 nm et 4 nm. Les principales applications sont…

Un ingénieur pilote un Dual Beam, grâce à un panneau de 4 écrans et un panneau de contrôle, permettant d'ajuster précisément les paramètres des colonnes électronique et ionique. Le Dual Beam est un bâti composé de deux faisceaux : un microscope électronique à balayage (MEB) et un focused ion beam (FIB) ou faisceau d'ions focalisé. Ce bâti permet de réaliser des images et de graver la matière à haute résolution, les résolutions respectives étant 1 nm et 4 nm. Les principales applications sont la…

Dual Beam, bâti composé de deux faisceaux : un microscope électronique à balayage (MEB) et un focused ion beam (FIB) ou faisceau d'ions focalisé. Il permet de réaliser des images et de graver la matière à haute résolution, les résolutions respectives étant 1 nm et 4 nm. Les principales applications sont la caractérisation haute résolution d'échantillons et la gravure localisée, notamment pour des applications en nanophotonique. Qu'il soit placé derrière une paroi en plastique et sous un plafond…

Dual Beam, bâti composé de deux faisceaux : un microscope électronique à balayage (MEB) et un focused ion beam (FIB) ou faisceau d'ions focalisé. Il permet de réaliser des images et de graver la matière à haute résolution, les résolutions respectives étant 1 nm et 4 nm. Les principales applications sont la caractérisation haute résolution d'échantillons et la gravure localisée, notamment pour des applications en nanophotonique. Qu'il soit placé derrière une paroi en plastique et sous un plafond…

Sas de la salle blanche MIMENTO (MIcrofabrication pour la MEcanique, les Nanosciences, la Thermique et l'Optique) du laboratoire FEMTO-ST.

Un wafer enduit de résine électrosensible va être placé dans une station de lithographie par faisceau d'électrons (Ebeam). Cette station permet de nanostructurer des résines électrosensibles. La résine déposée sur un substrat est bombardée par un faisceau électronique de haute énergie, selon un motif préalablement déterminé. Après développement dans une solution appropriée, cette résine insolée va se dissoudre (cas d'une résine positive). Les applications de cette machine sont principalement la…

Conception avec un logiciel dédié, du design contenant des zones de résine électrosensible à insoler. L'ingénieur règle également les paramètrages de l'exposition de la résine et ceux de la colonne. Le wafer enduit de résine électrosensible sera placé dans une station de lithographie par faisceau d'électrons (Ebeam). L'ensemble sera bombardé par un faisceau électronique de haute énergie, selon un motif préalablement déterminé. Après développement dans une solution appropriée, la résine insolée…

Zone de lithographie de la salle blanche MIMENTO (MIcrofabrication pour la MEcanique, les Nanosciences, la Thermique et l'Optique) du laboratoire FEMTO-ST. Ici, sont réalisés l'enduction et le recuit des résines photo et électrosensibles, le développement après insolation et le nettoyage (solvants et acides).

Zone de lithographie de la salle blanche MIMENTO (MIcrofabrication pour la MEcanique, les Nanosciences, la Thermique et l'Optique) du laboratoire FEMTO-ST. Ici, sont réalisés l'enduction et le recuit des résines photo et électrosensibles, le développement après insolation et le nettoyage (solvants et acides).

Zone de lithographie de la salle blanche MIMENTO (MIcrofabrication pour la MEcanique, les Nanosciences, la Thermique et l'Optique) du laboratoire FEMTO-ST. Ici, sont réalisés l'enduction et le recuit des résines photo et électrosensibles, le développement après insolation et le nettoyage (solvants et acides). Au fond, un aligneur UV permet d'insoler les résines photosensibles.

Zone de lithographie de la salle blanche MIMENTO (MIcrofabrication pour la MEcanique, les Nanosciences, la Thermique et l'Optique) du laboratoire FEMTO-ST. Ici, sont réalisés l'enduction et le recuit des résines photo et électrosensibles, le développement après insolation et le nettoyage (solvants et acides).

Bâti de gravure de silicium DRIE (Deep reactive ion etching), permettant de faire de la gravure profonde, en salle blanche. Ici, un wafer est mis dans le sas de chargement.

Bâti de gravure de silicium DRIE (Deep reactive ion etching), permettant de faire de la gravure profonde, en salle blanche. Ici, un wafer est mis dans le sas de chargement.

MEB (Microscope électronique à balayage) permettant de caractériser les échantillons en cours ou en fin de process, en salle blanche. Il permet d'obtenir des images topographiques d'une résolution maximale de 10 nm et de réaliser une analyse élémentaire grâce à l'EDS (Energy dispersive spectroscopy).

Réglage des paramètres permettant de réaliser une image au MEB (Microscope électronique à balayage), en salle blanche. Cet appareil permet de caractériser les échantillons en cours ou en fin de process. Il permet également d'obtenir des images topographiques d'une résolution maximale de 10 nm et de réaliser une analyse élémentaire grâce à l'EDS (Energy dispersive spectroscopy).

Réglage des paramètres permettant de réaliser une image au MEB (Microscope électronique à balayage). Cet appareil permet de caractériser les échantillons en cours ou en fin de process. Il permet également d'obtenir des images topographiques d'une résolution maximale de 10 nm et de réaliser une analyse élémentaire grâce à l'EDS (Energy dispersive spectroscopy).

Réglage des paramètres permettant de réaliser une image au MEB (Microscope électronique à balayage), en salle blanche. Cet appareil permet de caractériser les échantillons en cours ou en fin de process. Il permet également d'obtenir des images topographiques d'une résolution maximale de 10 nm et de réaliser une analyse élémentaire grâce à l'EDS (Energy dispersive spectroscopy).

Porte-échantillon monté à l'intérieur de la chambre d'un MEB (Microscope électronique à balayage). Cet appareil permet de caractériser les échantillons en cours ou en fin de process. Il permet également d'obtenir des images topographiques d'une résolution maximale de 10 nm et de réaliser une analyse élémentaire grâce à l'EDS (Energy dispersive spectroscopy).

Microscope optique en salle blanche.

Réglage des paramètres de gravure en salle blanche d'un bâti de gravure DRIE (Deep reactive ion etching). Cette machine permet de faire de la gravure profonde sur silicium.

Stepper pour la lithographie haute résolution par projection. Il fait partie des équipements de la ligne dédiée à la microfabrication de composants piezoélectriques de type SAW (Surface acoustic waves). Cette microfabrication est réalisée dans les salles blanches de l'Institut FEMTO-ST. L'une des originalités du projet consiste à partager cette ligne entre la recherche et l'industrie. Cette plateforme technologique sera unique en France et se positionne donc dans un schéma de concurrence…

Pistes d'enduction automatiques de la résine photosensible. Elles font partie des équipements de la ligne dédiée à la microfabrication de composants piezoélectriques de type SAW (Surface acoustic waves). Cette microfabrication est réalisée dans les salles blanches de l'Institut FEMTO-ST. L'une des originalités du projet consiste à partager cette ligne entre la recherche et l'industrie. Cette plateforme technologique sera unique en France et se positionne donc dans un schéma de concurrence…

Pistes d'enduction automatiques de la résine photosensible. Elles font partie des équipements de la ligne dédiée à la microfabrication de composants piezoélectriques de type SAW (Surface acoustic waves). Cette microfabrication est réalisée dans les salles blanches de l'Institut FEMTO-ST. L'une des originalités du projet consiste à partager cette ligne entre la recherche et l'industrie. Cette plateforme technologique sera unique en France et se positionne donc dans un schéma de concurrence…

Zone de dépôts et caractérisation de la ligne dédiée à la microfabrication de composants piezoélectriques de type SAW (Surface acoustic waves). Cette microfabrication est réalisée dans les salles blanches de l'Institut FEMTO-ST. L'une des originalités du projet consiste à partager cette ligne entre la recherche et l'industrie. Cette plateforme technologique sera unique en France et se positionne donc dans un schéma de concurrence mondiale.