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Reference
20120001_1807
Un wafer enduit de résine électrosensible va être placé dans une station de lithographie par faiscea
Un wafer enduit de résine électrosensible va être placé dans une station de lithographie par faisceau d'électrons (Ebeam). Cette station permet de nanostructurer des résines électrosensibles. La résine déposée sur un substrat est bombardée par un faisceau électronique de haute énergie, selon un motif préalablement déterminé. Après développement dans une solution appropriée, cette résine insolée va se dissoudre (cas d'une résine positive). Les applications de cette machine sont principalement la micro/nanoacoustique et la nanooptique.
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