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20110001_0884
© Cyril FRESILLON/CNRS Images

Bâti ultravide destiné à caractériser puis contrôler le greffage moléculaire sur silicium. Des moléc

Reference

20110001_0884

Production year

2011

Max. size

36.31 x 24.11 cm / 300 dpi

Caption

Bâti ultravide destiné à caractériser puis contrôler le greffage moléculaire sur silicium. Des molécules dérivées du benzène possédant des propriétés conductrices sont introduites dans le bâti et s'adsorbent sur la surface de silicium rendue très réactive par chauffage à très haute température (1 100°C). Le bâti est conçu pour maintenir une pression de l'ordre de 3x10 (exposant -10) torr. Il est notamment équipé d'un spectromètre infrarouge à transformée de Fourier, capable d'identifier la nature des molécules effectivement déposées sur l'échantillon. Le greffage moléculaire sur le silicium est une étape dans la recherche de nouveaux composants en électronique moléculaire.

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