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Reference
20110001_0889
Echantillon de silicium chauffé à 800°C dans un bâti ultravide. Ce bâti permet de préparer des échan
Echantillon de silicium chauffé à 800°C dans un bâti ultravide. Ce bâti permet de préparer des échantillons à des pressions de 3x10 (exposant -10) Torr. Lorsqu'il est chauffé à très haute température, le silicium réorganise et ordonne ses atomes de surface. Cette surface de silicium, dite "reconstruite", devient nanostructurée et très réactive. Il s'agit ici du Si(100) reconstruit 2x1. Sur cette surface, les chercheurs déposent ensuite des molécules dérivées du benzène possédant des propriétés conductrices dans le cadre de recherches en électronique moléculaire.
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