Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de fabrication, la plaquette (substrat de silicium) maintenue au bout de la pincette contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques. Ici, le chercheur sèche l'échantillon avec de l'azote gazeux après l'avoir trempé dans les différents solvants. La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des…
Echantillon contenant un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques (MTJ) fabriquées par lithographie optique, collé au centre de la puce (pièce dorée). L'ensemble est disposé dans l'appareil permettant d'effectuer la connexion entre les plots de contact sur chacune des jonctions et les plots de connexion de la puce. Le fil d'or de 50 µm qui va assurer le contact passe au travers de la buse blanche. Il est soudé sur les contacts par ultrason et chauffage.
Echantillon contenant un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques (MTJ) fabriquées par lithographie optique, collé au centre de la puce (pièce dorée). L'ensemble est disposé dans l'appareil permettant d'effectuer la connexion entre les plots de contact sur chacune des jonctions et les plots de connexion de la puce. Le fil d'or de 50 µm qui va assurer le contact passe au travers de la buse blanche. Il est soudé sur les contacts par ultrason et chauffage.
Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de microlithographie, la plaquette (substrat de silicium, zone verte) contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques (croix jaunes sur l'image). La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).
Microscope électronique à transmission (MET). Cet appareil permet de caractériser la structure cristallographique des échantillons à une échelle de 0,2 nanomètres. L'analyse s'effectuant par l'intermédiaire des électrons qui ont traversé la structure, les échantillons doivent être préalablement préparés sous forme de lames minces (100 nm) par des étapes de polissage. Ici, le chercheur optimise la mise au point du cliché de diffraction.
Microscope électronique à transmission (MET). Cet appareil permet de caractériser la structure cristallographique des échantillons à une échelle de 0,2 nanomètres. L'analyse s'effectuant par l'intermédiaire des électrons qui ont traversé la structure, les échantillons doivent être préalablement préparés sous forme de lames minces (100 nm) par des étapes de polissage. Ici, le chercheur optimise la mise au point du cliché de diffraction.
Echantillon contenant un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques (MTJ) fabriquées par lithographie optique, collé au centre de la puce (pièce dorée). L'ensemble est disposé dans l'appareil permettant d'effectuer la connexion entre les plots de contact sur chacune des jonctions et les plots de connexion de la puce. Le fil d'or de 50 µm qui va assurer le contact passe au travers de la buse blanche. Il est soudé sur les contacts par ultrason et chauffage.
Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de microlithographie, la plaquette (substrat de silicium, zone verte) contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques (croix jaunes sur l'image). La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).
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