Année de production
2003
© Hubert RAGUET/THALES/CNRS Images
20030001_0566
Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de fabrication, la plaquette (substrat de silicium) maintenue au bout de la pincette contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques. Ici, le chercheur sèche l'échantillon avec de l'azote gazeux après l'avoir trempé dans les différents solvants. La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).
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2003
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