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20030001_0566
© Hubert RAGUET/THALES/CNRS Photothèque

Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de f

Référence

20030001_0566

Année de production

2003

Taille maximale

30 x 20 cm / 300 dpi

Légende

Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de fabrication, la plaquette (substrat de silicium) maintenue au bout de la pincette contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques. Ici, le chercheur sèche l'échantillon avec de l'azote gazeux après l'avoir trempé dans les différents solvants. La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).

Institut(s)

Thématiques scientifiques

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