Année de production
2003
© Hubert RAGUET/THALES/CNRS Images
20030001_0567
Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de microlithographie, la plaquette (substrat de silicium, zone verte) contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques (croix jaunes sur l'image). La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
2003
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.