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20030001_0567
© Hubert RAGUET/THALES/CNRS Images

Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de m

Reference

20030001_0567

Production year

2003

Max. size

30 x 20 cm / 300 dpi

Caption

Fabrication par lithographie optique de jonctions tunnel magnétiques (MTJ). A la fin du procédé de microlithographie, la plaquette (substrat de silicium, zone verte) contient un grand nombre de jonctions tunnel magnétiques submicroniques (croix jaunes sur l'image). La magnétorésistance tunnel aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).

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