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Image de microscopie électronique en transmission d'un empilement successif de couches de cobalt (noir) et de nitrure d'aluminium (gris). L'épaisseur des couches de cobalt est de 0,7 nm et la périodicité de 3,7 nm. Ces travaux sont effectués dans le domaine de la magnétorésistance tunnel qui aura des applications importantes pour la réalisation de mémoires électroniques (technologie des ordinateurs).
