Plasma d'argon utilisé pour le dépôt de matériaux en couches minces

Plasma d'argon utilisé pour le dépôt de matériaux en couches minces. Le dépôt de couche mince est une étape indispensable pour utiliser des matériaux fonctionnels dans des dispositifs. La technique de dépôt utilisée ici est la pulvérisation magnétron. Elle nécessite la création, au voisinage d'une cible céramique du matériau à déposer, d'un plasma d'argon (mélange d'espèces gazeuses ionisées) qui se caractérise par un spectre d'émission lumineuse dans le violet.