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20190003_0005
© Jean-Claude MOSCHETTI / IMN / CNRS Photothèque

Introduction d'un wafer de silicium dans un bâti de dépôt de couches minces

Référence

20190003_0005

Année de production

2018

Taille maximale

55.68 x 37.16 cm / 300 dpi

Légende

Introduction d'un wafer de silicium dans un bâti de dépôt de couches minces. Le dépôt de couche mince est une étape indispensable pour utiliser des matériaux fonctionnels dans des dispositifs. Ici, il s'agit de déposer une couche mince d'un matériau chalcogénure isolant de Mott au sein d'un empilement de couches minces, en vue de réaliser deux nouveaux dispositifs de rupture : les mémoires de Mott et les neurones artificiels de Mott.

Institut(s)

Thématiques scientifiques

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