L'url de cette page a bien été copiée dans votre presse-papier!
Référence
20180004_0094
Un wafer de 4’’ est introduit dans la chambre à ultravide
Un wafer de 4’’ est introduit dans la chambre à ultravide (pression de travail de 10-9 mbar) et déplacé en 3 dimensions (x, y et z). Un échantillon est simplement posé sur ce support (pour, entre autres, éviter les contaminations pendant le dopage dues à la graisse à vide, résines collantes, etc.). Cette étude est réalisée dans le cadre du dopage laser (GILD : Gaz immersion laser doping).
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.
