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20180004_0094
© Cyril FRESILLON / C2N / CNRS Photothèque

Un wafer de 4’’ est introduit dans la chambre à ultravide

Référence

20180004_0094

Année de production

2017

Taille maximale

41.72 x 27.77 cm / 300 dpi

Légende

Un wafer de 4’’ est introduit dans la chambre à ultravide (pression de travail de 10-9 mbar) et déplacé en 3 dimensions (x, y et z). Un échantillon est simplement posé sur ce support (pour, entre autres, éviter les contaminations pendant le dopage dues à la graisse à vide, résines collantes, etc.). Cette étude est réalisée dans le cadre du dopage laser (GILD : Gaz immersion laser doping).

Institut(s)

Thématiques scientifiques

Issues du même reportage : Centre de nanosciences et de nanotechnologies (C2N)

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