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20130001_1618
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Equipement d'épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOCVD) utilisé pour la croissance de nanostructures semiconductrices, en salle blanche

Référence

20130001_1618

Année de production

2013

Taille maximale

27.08 x 18.01 cm / 300 dpi

Légende

Equipement d'épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOCVD) utilisé pour la croissance de nanostructures semiconductrices, en salle blanche. L'objectif est de mettre au point des composants nanophotoniques, pour obtenir de l'émission de lumière dans des dispositifs de plus en plus compacts.

Institut(s)

Délégation(s)

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