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20110001_0885
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Bâti ultravide destiné à caractériser puis contrôler le greffage moléculaire sur silicium. Des moléc

Référence

20110001_0885

Année de production

2011

Taille maximale

24.11 x 36.31 cm / 300 dpi

Légende

Bâti ultravide destiné à caractériser puis contrôler le greffage moléculaire sur silicium. Des molécules dérivées du benzène possédant des propriétés conductrices sont introduites dans le bâti et s'adsorbent sur la surface de silicium rendue très réactive par chauffage à très haute température (1 100°C). Le bâti est conçu pour maintenir une pression de l'ordre de 3x10 (exposant -10) torr. Il est notamment équipé d'un spectromètre infrarouge à transformée de Fourier, capable d'identifier la nature des molécules effectivement déposées sur l'échantillon. Le greffage moléculaire sur le silicium est une étape dans la recherche de nouveaux composants en électronique moléculaire.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

Issues du même reportage : Institut des NanoSciences de Paris 3

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