20050001_0380

© Jérôme CHATIN/CNRS Images

Référence

20050001_0380

Bâti de gravure ionique réactive (RIE) en gaz fluorés. Il est destiné à la gravure de nombreux matér

Bâti de gravure ionique réactive (RIE) en gaz fluorés. Il est destiné à la gravure de nombreux matériaux attaqués par les plasmas oxygène et fluoré : résines, polymères, polyimides, diélectriques, métaux et semiconducteurs.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.