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Groupe d'études de la matière condensée (GEMaC)

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Plasma d'hydrogène et de méthane utilisé pour la fabrication du diamant. La couleur violette du plasma provient de la désexcitation des atomes d'hydrogène. A travers le hublot du réacteur, on peut voir également un diamant synthétique de 2 mm de coté reposant sur un support métallique porté au rouge (850 °C). Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. L'objectif est aujourd'hui de contrôler la conductivité…

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Plasma d'hydrogène et de méthane utilisé pour la fabrication du diamant. La couleur violette du plas
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Chambre de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbone, et l'hydrogène, catalyseur du dépôt, sont rendus réactifs par un plasma micro-ondes. Sous faible pression (50 mbar) et haute température (800-900 °C) des couches minces de diamant sont alors synthétisées à des vitesses de l'ordre du micromètre par heure. Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. Ce réacteur…

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Chambre de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbo
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Réacteur de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbone, et l'hydrogène, catalyseur du dépôt, sont rendus réactifs par un plasma micro-ondes. Sous faible pression (50 mbar) et haute température (800-900 °C) des couches minces de diamant sont alors synthétisées à des vitesses de l'ordre du micromètre par heure. Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. Ce réacteur…

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Réacteur de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carb
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Plasma d'hydrogène et de méthane utilisé pour la fabrication du diamant. La couleur violette du plasma provient de la désexcitation des atomes d'hydrogène. A travers le hublot du réacteur, on peut voir également un diamant synthétique de 2 mm de coté reposant sur un support métallique porté au rouge (850 °C). Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. L'objectif est aujourd'hui de contrôler la conductivité…

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Plasma d'hydrogène et de méthane utilisé pour la fabrication du diamant. La couleur violette du plas
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Système de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbone, et l'hydrogène, catalyseur du dépôt, sont rendus réactifs par un plasma micro-ondes. Sous faible pression (50 mbar) et haute température (800-900 °C) des couches minces de diamant sont alors synthétisées à des vitesses de l'ordre du micromètre par heure. Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. Ce réacteur…

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Système de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbo
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Réacteur de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbone, et l'hydrogène, catalyseur du dépôt, sont rendus réactifs par un plasma micro-ondes. Sous faible pression (50 mbar) et haute température (800-900 °C) des couches minces de diamant sont alors synthétisées à des vitesses de l'ordre du micromètre par heure. Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. Ce réacteur…

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Réacteur de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carb
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Chambre de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbone, et l'hydrogène, catalyseur du dépôt, sont rendus réactifs par un plasma micro-ondes. Sous faible pression (50 mbar) et haute température (800-900 °C) des couches minces de diamant sont alors synthétisées à des vitesses de l'ordre du micromètre par heure. Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. Ce réacteur…

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Chambre de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbo
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Système de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbone, et l'hydrogène, catalyseur du dépôt, sont rendus réactifs par un plasma micro-ondes. Sous faible pression (50 mbar) et haute température (800-900 °C) des couches minces de diamant sont alors synthétisées à des vitesses de l'ordre du micromètre par heure. Le diamant est un semiconducteur très prometteur pour les prochaines générations de composants électroniques et de détecteurs. Ce réacteur…

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Système de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication du diamant. Le méthane, source de carbo

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