Année de production
2018
© Hubert RAGUET / IJL / CNRS Images
20180015_0060
Placement d'un échantillon préalablement recouvert de résine photosensible sur le porte-échantillon d'une machine de lithographie optique (un aligneur de masque MJB4), en salle blanche. Cet équipement permet de réaliser des masques en résine photosensible de motifs micrométriques en 2D. Un rayonnement ultraviolet de longueur d'onde 365 nanomètres est envoyé sur la résine à travers un masque de verre sur lequel sont dessinés les motifs à reproduire. Cette technique permet de descendre à une résolution de 1 µm et de superposer plusieurs masques les uns sur les autres pour former un dispositif. Cette machine est utilisée dans le cadre de la fabrication de microsystèmes à ondes acoustiques de surface et de jonctions tunnel, entre autres applications.
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
2018
Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.