Production year
2018
© Hubert RAGUET / IJL / CNRS Images
20180015_0060
Placement d'un échantillon préalablement recouvert de résine photosensible sur le porte-échantillon d'une machine de lithographie optique (un aligneur de masque MJB4), en salle blanche. Cet équipement permet de réaliser des masques en résine photosensible de motifs micrométriques en 2D. Un rayonnement ultraviolet de longueur d'onde 365 nanomètres est envoyé sur la résine à travers un masque de verre sur lequel sont dessinés les motifs à reproduire. Cette technique permet de descendre à une résolution de 1 µm et de superposer plusieurs masques les uns sur les autres pour former un dispositif. Cette machine est utilisée dans le cadre de la fabrication de microsystèmes à ondes acoustiques de surface et de jonctions tunnel, entre autres applications.
The use of media visible on the CNRS Images Platform can be granted on request. Any reproduction or representation is forbidden without prior authorization from CNRS Images (except for resources under Creative Commons license).
No modification of an image may be made without the prior consent of CNRS Images.
No use of an image for advertising purposes or distribution to a third party may be made without the prior agreement of CNRS Images.
For more information, please consult our general conditions
2018
Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.