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Référence
20130001_1532
Vue arrière de la plateforme d'injection de l'accélérateur électrostatique TANDEM. A gauche, la sour
Vue arrière de la plateforme d'injection de l'accélérateur électrostatique TANDEM. A gauche, la source d'ions IONEX à pulvérisation de césium (Cs) utilisée pour la production d'ions lourds. A droite, une source d'ions DUOPLASMASTRON utilisée pour la production d'ions légers comme l'hydrogène, le deutérium, l'hélium 3 et l'hélium 4.
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