
© Cyril FRESILLON/CNRS Images
Chargement d'un substrat, une galette de silicum, dans un masqueur à LED UV
Référence
20130001_0764
Année de production
2013
Taille maximale
41.72 x 27.77 cm / 300 dpi
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Chargement d'un substrat, une galette de silicum, dans un masqueur à LED UV et positionnement du masque en verre. Cet appareil est installé dans une salle blanche. Il est utilisé dans le cadre d'un procédé de lithographie laser, pour une première étape simple de lithographie pleine plaque, par exemple : des croix de repérage, des réseaux d'électrodes milli- ou micrométriques identiques.