Année de production
2013
© Cyril FRESILLON/CNRS Images
Référence
20130001_0764
Chargement d'un substrat, une galette de silicum, dans un masqueur à LED UV
Chargement d'un substrat, une galette de silicum, dans un masqueur à LED UV et positionnement du masque en verre. Cet appareil est installé dans une salle blanche. Il est utilisé dans le cadre d'un procédé de lithographie laser, pour une première étape simple de lithographie pleine plaque, par exemple : des croix de repérage, des réseaux d'électrodes milli- ou micrométriques identiques.
Ajouter à ma sélection
Conditions d'utilisation
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
