Empreinte de l'indentation d'une pointe de tungstène laissée dans une surface de silicium (100) à l'

Empreinte de l'indentation d'une pointe de tungstène laissée dans une surface de silicium (100) à l'échelle atomique. Les fines lignes parallèles les unes aux autres correspondent aux rangées de dimères de silicium, caractéristiques de la reconstruction (2 x 1) de cette surface. A de nombreux endroits, des petites dépressions sont visibles et correspondent à des lacunes d'atomes de silicium. Cette image a été obtenue par microscopie à effet tunnel.